泰勒霍普森輪廓儀TAYLOR

泰勒霍普森輪廓儀CCI MP-HS

無(wú)論測(cè)量的是何種元件，無(wú)論對(duì)分析速度的要求有多高，我們創(chuàng)新的CCI MP-HS非接觸式光學(xué)輪廓儀都能為您提供精密的3D表面測(cè)量結(jié)果。 一百萬(wàn)高速相機(jī)與1/10埃垂直分辨率相結(jié)合，無(wú)論是測(cè)量非常粗糙的表面，還是測(cè)量極其光滑的表面，都能獲得令人不可思議的詳細(xì)分析。

CCI MP-HS極大地?cái)U(kuò)展了分析能力，同時(shí)又不至于讓分析程序變得更復(fù)雜。 您可以測(cè)量各種各樣的元件和表面，不需要進(jìn)行復(fù)雜的測(cè)量模式切換，也不會(huì)給中間透鏡的校準(zhǔn)增加額外的負(fù)擔(dān)。 通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)化的方法、程序和報(bào)告，CCI MP-HS可輕松地整合到您的質(zhì)量管理系統(tǒng)中。

1048 x 1048像素陣列，視場(chǎng)廣，高分辨率

高級(jí)X、Y、Z拼接，擴(kuò)展量程

RMS重復(fù)精度<0.2 埃，階躍高度重復(fù)精度<0.1%

整合抗振，優(yōu)化抗噪性能

多語(yǔ)言版本的Windows，64位軟件

泰勒霍普森輪廓儀CCI MP

泰勒霍普森輪廓儀CCI MP是一種高級(jí)的測(cè)量干涉儀（非接觸式3D輪廓儀）。 它采用新型關(guān)聯(lián)算法，來(lái)查找由我們的精密光學(xué)掃描裝置產(chǎn)生的干涉圖的相干峰和相位。

CCI MP對(duì)于很多需要進(jìn)行高精度3D輪廓分析的應(yīng)用非常有用。 轉(zhuǎn)臺(tái)上可以同步裝配各種各樣的標(biāo)的物，因而可測(cè)量多種類(lèi)型的表面。 全自動(dòng)的工作臺(tái)和自動(dòng)測(cè)量程序進(jìn)一步增強(qiáng)了測(cè)量的靈活性。

CCI MP非接觸式3D輪廓儀的一個(gè)關(guān)鍵優(yōu)勢(shì)就是功能多、用途廣。 反射率為0.3%至100%的拋光表面、粗糙表面、曲面、平面或臺(tái)階面，都能使用一種算法進(jìn)行測(cè)量，不需要為不同的表面改變模式，也不用擔(dān)心會(huì)選擇錯(cuò)誤的模式。 可測(cè)量的材料類(lèi)型包括： 玻璃、液體墨水、光刻膠、金屬、聚合物和糊劑。

1048 x 1048像素陣列，視場(chǎng)廣，高分辨率

經(jīng)過(guò)改良的新型X、Y、Z拼接，量程多達(dá)100毫米

RMS重復(fù)精度<0.2埃，階躍高度重復(fù)精度<0.1%

全量程埃級(jí)分辨率

多語(yǔ)言版本的Windows 7，64位軟件